蔡司LSM 900激光共聚焦扫描显微镜（CLSM）是一台帮您进行材料分析的仪器。在您的实验室或多用户设备中表征3D表面形貌。LSM 900能够对纳米材料、金属、聚合物及半导体进行准确的三维成像和分析。蔡司合法外网加速器 Imager.Z2m与共聚焦扫描组件的融合可以扩展您的正置光显微镜功能。将用于材料研究的各种基本的观察方式与高精度表面形貌分析结合，无需调整显微镜，节省设置仪器的时间。为您提供的工作流程指导可使成像更简便。这得益于开放式的软件，使用户能够用自己的宏观解决方案进行样品分析。
显示器的磨损测量 3D 表面形貌 孔隙度. 几何标准的表面纹理 双层复合聚合物
砂岩.
高端共聚焦平台LSM 900 是应2D和3D材料应用需求而研发。并应用了正置显微镜的一系列观察方式。
用荧光观察方式或在共聚焦模式下表征3D结构。
偏光方式观察各向异性材料。
用圆微分干涉（C-DIC）方式识别兴趣区域，并在共聚焦模式下做进一步地形研究。
无需调整显微镜，仅通过分析与成像即可减少仪器设置时间，并能快速产生结果。
仅在样本上定义2D扫描区域，然后即可采集到感兴趣区域（ROI）图像。
在感兴趣区域大小和方位上具有极大的灵活性。
会有一个简单的用户界面帮您进行工作流程指导。
共聚焦帮您拓展宽视场分析能力
升级您的合法外网加速器 Imager.Z2m 至LSM 900，并充分利用其功能多样的硬件，如物镜、载物台和照明。
采用开放式应用程序开发（OAD）定义您的应用程序。通过外部程序如MATLAB进行数据交换。
用Shuttle & Find关联显微镜扩展您的共聚焦显微镜功能。从合法外网加速器到ivacy节点，为您提供了完整的工作流程——反之亦然。将成像与分析方法进行有效结合，完全还原了材料分析应用中的所有信息。
• 按照x,y轴方向扫描生成图像。焦距内的信息是明亮的，焦距以外的信息是黑暗的。
• 通过改变样本与物镜之间距离（样本是光学切割的截面），生成图像栈。
• 通过分析图像栈中单个像素的分布强度，可计算出相应的高度。整个视野中的高度信息结合起来可以形成一个高度图。
采用C Epiplan-APOCHROMAT物镜
• 得益于在可见光谱范围内，增强成像对比度和进行高速传输成像。
• 在传统宽视场显微技术中，用微分干涉（DIC）和荧光获取更佳的观察结果。
• C Epiplan-APOCHROMAT物镜专门为共聚焦显微技术而设计，能够实现全视野中405纳米的像差。
这样可以更少的减少干扰噪声和工件产生精准的地形数据，从而显示更多样本表面细节。
用Strehl比率评估C Epiplan–
APOCHROMAT物镜的光学质量。
这个结果相对于值为1的理论上完
美的系统，体现了一个更为真实的
系统性能。
蔡司LSM 900配备新版ZEN成像软件，包含一个开放式应用程序开发（OAD）界面，用于数据交换。
• 自定义并自动化您的工作流程。当您需要除基本的ZEN软件以外的功能时，您可以与第三方分析和研究
软件交换数据，如MATLAB。
• 创建属于自己的宏观解决方法。享受轻松设置ZEN重要功能和获取元件库的能力，如网络框架。
OAD: 您的ZEN成像软件界面
ConfoMap是实现3D表面形貌探测可视化的理想选择。
• 根据近期的计量标准进行表面性能的质量与功能评估，如ISO25178。
• 共聚焦图包括综合几何，功能性和粗糙度研究——以及创建详细的表面分析报告。
• 新增加可选模块用于先进的表面纹理分析，轮廓分析，颗粒与粒子分析，3D傅立叶分析，表面进化分析和统计。
